- lithographie litografiezh gw. -où
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travail des matériaux ◊ ensemble des techniques qui permettent de reproduire dans une résine déposée à la surface d'un matériau le motif d'une structure qu'on désire fabriqueren lithography
- lithographie à l'échelle nanométrique litografiezh nanoskeul gw.
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physique, nanotechnologie ◊ ou nanolithographie - technique qui, à l'échelle nanométrique, permet de reproduire le motif d'une structure moléculaire à la surface d'un matériauen nanoscale lithography, nanolithography
- lithographie molle litografiezh wak gw.
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physique, nanotechnologie ◊ forme de lithographie par nano-impression dans laquelle on utilise une matière molle au lieu d'une matière dure, pour fabriquer un moule ou un tamponen soft lithography
- lithographie par faisceau d'électrons litografiezh gant ur bann elektronoù gw.
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physique, nanotechnologie ◊ reproduction du motif d'une structure micrométrique ou nanométrique dans une résine sensible déposée à la surface d'un matériau en utilisant un faisceau d'électrons comme outil d'impressionen electron beam lithography, EBL, e-beam lithography
- lithographie par faisceau d'ions focalisé litografiezh gant ur bann ionoù fokuset gw.
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physique, nanotechnologie ◊ reproduction du motif d'une structure micrométrique ou nanométrique dans une résine sensible au moyen d'un faisceau d'ions généralement dirigé par un système de lentilles électrostatiquesen focused ion beam lithography, FIBL, FIB lithography
- lithographie par nano-impression litografiezh nanomoullerezh gw.
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physique, nanotechnologie ◊ ou nano-impression - lithographie dans laquelle on applique un moule dur ou un tampon encreur à la surface d'un matériau, afin d'y laisser dans une résine l'empreinte d'une structure nanométriqueen nanoimprinting lithography, NIL, nanoimprinting
- lithographie par projection d'ions litografiezh gant ur bann ionoù gw.
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physique, nanotechnologie ◊ technique où un faisceau d'ions, généralement dirigé par un système de lentilles électrostatiques, est projeté, à travers un masque de type stencil, en direction de la résine sensibleen ion beam projection lithography, ion projection lithography, IPL
- lithographie par projection de faisceau d'électrons litografiezh gant ur bann elektronoù gw.
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physique, nanotechnologie ◊ technique où un faisceau d'électrons, généralement dirigé par un système de lentilles électromagnétiques, est projeté, à travers un masque de type stencil, en direction de la résine sensibleen electron beam projection lithography, electron projection lithography, EPL
- lithographie par rayons X litografiezh gant skinoù X gw.
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physique, nanotechnologie ◊ utilisation des rayons X pour reproduire le motif d'une structure nanométrique dans une résine sensible, vers laquelle ils sont dirigés à travers un masqueen X-ray lithography, XRL, X-lithography
- lithographie par ultraviolets extrêmes litografiezh gant skinoù UV tre gw.
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physique, nanotechnologie ◊ utilisation de rayons UV de 10 à 14 nm pour reproduire le motif d'une structure nanométrique dans une résine sensible, vers laquelle ils sont dirigés à travers un masque par un système de miroirsen extreme ultraviolet lithography, extreme UV lithography, EUV lithography