- lithographie par ultraviolets extrêmes litografiezh gant skinoù UV tre gw.
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physique, nanotechnologie ◊ utilisation de rayons UV de 10 à 14 nm pour reproduire le motif d'une structure nanométrique dans une résine sensible, vers laquelle ils sont dirigés à travers un masque par un système de miroirsen extreme ultraviolet lithography, extreme UV lithography, EUV lithography
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